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                  苏州帕士卡真空镀膜技术常见类型及优缺点

                  发布时间:2022-02-16 12:58 浏览:

                  真空镀膜技术是在真空条件下□采用物理或化学方法,使物体表面获得∮所需的涂层,目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源◣等领域。真空镀膜技术也是PVD涂层╳的常用制备方法,如真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法(PVD),是基本的涂层制备①技术。接下来,苏州帕士卡微纳米科技有限公司小编为大家分享▽一下真空镀膜技术常见类型及其各自优♂缺点,希望大家有更深的了解。
                   
                  一、真空蒸发镀膜技术及其优缺点
                  真△空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀)是●在真空室中,加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到基片表面,凝结形成固态薄膜的方法。
                   
                  1、电子束←蒸发源蒸镀法
                  电子束蒸发镀是将蒸发材料放入水冷铜坩锅中↘,直接利用电子束加热→,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面形成膜,是真空蒸发镀膜技术◢中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。
                   
                  优点:
                  (1)电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热源更大的能量密度。
                  (2)由于被蒸发材料是置于水冷坩锅内,因而可避免容器↘材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对提高镀膜的「纯度极为重要。
                  (3)热量可直接加到蒸镀材料的表面,因而热效率高热传导和热辐射的损失少。
                   
                  2、电阻蒸发▅源蒸镀法
                  电阻加热蒸发法就是采用钨、钼等高熔点金属,做成适当形状的蒸发源,其上▽装入待蒸发材料,让电流通过,对蒸发材料进行直接加热蒸发,或者把待蒸发材料放入坩锅中进行间接加热蒸发。
                   
                  优点:
                  利用电阻加热器加热蒸发的镀膜设备构▂造简单、造价便宜、使用可靠,可用于熔点不太高的材料的蒸发镀Ψ 膜,尤々其适用于对膜层质量要求不太高的大批量的生产中△。
                   
                  缺点:
                  加热所能达到的温度有限,加热器的寿命≡也较短。